logo
Zhuzhou Sanxin Cemented Carbide Manufacturing Co., Ltd
Запросите цитату
Russian
English
French
German
Italian
Russian
Spanish
Portuguese
Dutch
Greek
Japanese
Korean
Arabic
Hindi
Turkish
Indonesian
Vietnamese
Thai
Bengali
Persian
Polish
Главная страница ПродукцияОбработка карбида вольфрамаWC-10Ni Non-Magnetic Hard Alloy Tungsten Steel Slider with Permeability <1.002 and Remanence <0.05 mT for Semiconductor Equipment
WC-10Ni Non-Magnetic Hard Alloy Tungsten Steel Slider with Permeability <1.002 and Remanence <0.05 mT for Semiconductor Equipment
WC-10Ni Non-Magnetic Hard Alloy Tungsten Steel Slider with Permeability <1.002 and Remanence <0.05 mT for Semiconductor Equipment WC-10Ni Non-Magnetic Hard Alloy Tungsten Steel Slider with Permeability <1.002 and Remanence <0.05 mT for Semiconductor Equipment WC-10Ni Non-Magnetic Hard Alloy Tungsten Steel Slider with Permeability <1.002 and Remanence <0.05 mT for Semiconductor Equipment WC-10Ni Non-Magnetic Hard Alloy Tungsten Steel Slider with Permeability <1.002 and Remanence <0.05 mT for Semiconductor Equipment WC-10Ni Non-Magnetic Hard Alloy Tungsten Steel Slider with Permeability <1.002 and Remanence <0.05 mT for Semiconductor Equipment

WC-10Ni Non-Magnetic Hard Alloy Tungsten Steel Slider with Permeability <1.002 and Remanence <0.05 mT for Semiconductor Equipment

Подробная информация о продукте:
Место происхождения: Китай
Фирменное наименование: Sanxin
Сертификация: ISO 9001
Номер модели: SX1278
Оплата и доставка Условия:
Количество мин заказа: 2
Время доставки: 5-25 дней
Условия оплаты: Т/Т,Л/К,Вестерн Юнион
Контакт
  • Подробная информация
  • Характер продукции

Подробная информация
Толерантность: ±0,01 мм или ±0,001 мм Категории: Обработка карбида вольфрама
Пластичность: Хорошая пластичность и механизм Высокое давление: 350 МПа
Метод обработки: Резать, молоть, полируя OEM: Да
Форма: Круглый, квадратный, прямоугольный Тип продукта: Промышленный материал
изгибная прочность: 2000 МПа Модель: Насадка на карбид вольфрама
Чистота поверхности: Отличный Размер отверстия: 1.784 Внутренняя дыра
Точка плавления: 2,870°C Теплостойкость: Внутренний отверстий для насадки карбида вольфрама
Выделить:

WC-10Ni Non-Magnetic Hard Alloy Tungsten Steel Slider

,

Permeability <1.002 Tungsten Steel Slider

,

Remanence <0.05 mT Tungsten Steel Slider

Характер продукции

WC-Ni Zero-magnetic-interference Non-magnetic Tungsten Steel Slider
For Semiconductors And Medical Devices
This non-magnetic tungsten steel slider is specifically developed for high-precision applications in semiconductor equipment and medical instruments. Utilizing a special WC-Ni non-magnetic formula with precision grinding and mirror polishing technology, it achieves stable linear motion with zero magnetic interference, low friction, and high precision in sensitive working environments.
Breakthrough Applications of Non-Magnetic Materials
Material Composition
  • WC-10Ni Non-Magnetic Hard Alloy
Magnetic Properties
  • Permeability: <1.002
  • Remanence: <0.05 mT
  • Coercivity: <10 A/m
Physical Properties
  • Hardness: 90-92 HRA
  • Density: 14.8-15.0 g/cm³
  • Coefficient of Thermal Expansion: 5.5*10⁻⁶/K
  • Coefficient of Friction: 0.15-0.18 (with chrome-plated rails)
Manufacturing Excellence
Machining Process
  • Five-sided precision grinding
  • CNC machining
  • Diamond grinding mirror finish
Precision Specifications
Flatness ≤0.003mm/100mm
Parallelism ≤0.005mm
Surface Roughness Ra 0.2-0.4μm
Dimensional Tolerance ±0.002mm
Performance Comparison Analysis
Performance Indicators Non-magnetic tungsten carbide slider Stainless steel slider Traditional tungsten carbide slider Core Advantages
Magnetic Permeability <1.002 1.02-1.05 1.5-2.0 Completely eliminates magnetic interference
Hardness 90-92 HRA 70-90 HRB 89-91 HRA 3 times better wear resistance
Service Life >1000km 200km 800km 5 times longer service life
Coefficient of Friction 0.15-0.18 0.25-0.35 0.18-0.22 Smoother operation
Corrosion Resistance Excellent Good Good Suitable for harsh environments
Reference only
WC-10Ni Non-Magnetic Hard Alloy Tungsten Steel Slider with Permeability <1.002 and Remanence <0.05 mT for Semiconductor Equipment 0

тег:

части карбида вольфрама

продукция карбида вольфрама

Инструменты карбида вольфрама

Свяжись с нами

Впишите ваше сообщение

Вы могли бы быть в этих